Resistencia a la compresión de tres resinas nanohibridas (Filtek™ Z350 XT, Magma NT y Forma) fotopolimerizadas con una lámpara de luz L.E.D., U.C.S.M, Arequipa 2019

dc.contributor.advisorNuñez Chavez, Victor Rene
dc.contributor.authorDávila Cajaña, Marco Gustavo
dc.date.accessioned2019-12-23T15:04:08Z
dc.date.available2019-12-23T15:04:08Z
dc.date.issued2019-12-23
dc.description.abstractEl objetivo de la presente investigación fue determinar la resistencia a la compresión de tres resinas nanohibridas FILTEK™ Z350 XT, Magma NT y FORMA fotopolimerizadas con una lámpara de luz LED Woodpecker modelo I con una intensidad de 1000mW/cm2. Se elaboró 36 probetas de resina de 3.5 mm de diámetro y 7 mm de longitud, fueron preparadas en una matriz metálica utilizando la técnica incremental polimerizando 20 segundos en cada incremento. Se eliminó los excesos de resina con un disco soflex de grano medio, fino y ultra fino. Se dividieron las probetas en 3 grupos de 12 muestras a su respectiva marca. Posteriormente las probetas fueron llevadas al laboratorio de materiales de la facultad de Ingeniería Mecánica de la Universidad Católica Santa María donde fueron sometidas al test de resistencia a la compresión en la maquina universal de polímeros. Para la recolección de datos se utilizó la técnica observacional con ayuda de una ficha de registro en donde se anotó la información en MPa de cada probeta. Los resultados demostraron que el valor promedio de resistencia a la compresión de la resina nanohibrida FILTEK™ Z350 XT fue de 219.2 MPa, el valor promedio de resistencia a la compresión de la resina nanohibrida Magma NT fue de 186.8 MPa y el valor promedio de resistencia a la compresión de la resina nanohibrida FORMA 182.9 MPa. Se concluyó que la resina nanohibrida FILTEK™ Z350 XT posee mayor resistencia a la compresión frente a las resinas nanohibridas Magma NT y FORMA. Palabras clave: Resinas, incremental, resistencia a la compresión, nanohibridas.es_ES
dc.description.uriTesises_ES
dc.formatapplication/pdfes_ES
dc.identifier.urihttps://repositorio.ucsm.edu.pe/handle/20.500.12920/9759
dc.language.isospaes_ES
dc.publisherUniversidad Católica de Santa Maríaes_ES
dc.publisher.countryPEes_ES
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccesses_ES
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/es_ES
dc.sourceUniversidad Católica de Santa Maríaes_ES
dc.sourceRepositorio de la Universidad Católica de Santa María - UCSMes_ES
dc.subjectResinases_ES
dc.subjectincrementales_ES
dc.subjectresistencia a la compresiónes_ES
dc.subjectnanohibridases_ES
dc.subject.ocdehttps://purl.org/pe-repo/ocde/ford#3.02.14es_ES
dc.titleResistencia a la compresión de tres resinas nanohibridas (Filtek™ Z350 XT, Magma NT y Forma) fotopolimerizadas con una lámpara de luz L.E.D., U.C.S.M, Arequipa 2019es_ES
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/bachelorThesises_ES
dc.type.versioninfo:eu-repo/semantics/publishedVersiones_ES
renati.discipline911026es_ES
renati.levelhttps://purl.org/pe-repo/renati/nivel#tituloProfesionales_ES
renati.typehttps://purl.org/pe-repo/renati/type#tesises_ES
thesis.degree.disciplineOdontologíaes_ES
thesis.degree.grantorUniversidad Católica de Santa María.Facultad de Odontologíaes_ES
thesis.degree.levelTítulo Profesionales_ES
thesis.degree.nameCirujano Dentistaes_ES

Files

Original bundle
Now showing 1 - 1 of 1
Loading...
Thumbnail Image
Name:
64.2955.O.pdf
Size:
2.39 MB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
License bundle
Now showing 1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
Name:
license.txt
Size:
1.71 KB
Format:
Item-specific license agreed upon to submission
Description:

Collections