Resistencia a la compresión de tres resinas nanohibridas (Filtek™ Z350 XT, Magma NT y Forma) fotopolimerizadas con una lámpara de luz L.E.D., U.C.S.M, Arequipa 2019
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Date
2019-12-23
Authors
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Publisher
Universidad Católica de Santa María
Abstract
El objetivo de la presente investigación fue determinar la resistencia a la
compresión de tres resinas nanohibridas FILTEK™ Z350 XT, Magma NT y
FORMA fotopolimerizadas con una lámpara de luz LED Woodpecker modelo I con
una intensidad de 1000mW/cm2.
Se elaboró 36 probetas de resina de 3.5 mm de diámetro y 7 mm de longitud,
fueron preparadas en una matriz metálica utilizando la técnica incremental
polimerizando 20 segundos en cada incremento. Se eliminó los excesos de resina
con un disco soflex de grano medio, fino y ultra fino.
Se dividieron las probetas en 3 grupos de 12 muestras a su respectiva marca.
Posteriormente las probetas fueron llevadas al laboratorio de materiales de la
facultad de Ingeniería Mecánica de la Universidad Católica Santa María donde
fueron sometidas al test de resistencia a la compresión en la maquina universal
de polímeros.
Para la recolección de datos se utilizó la técnica observacional con ayuda de una
ficha de registro en donde se anotó la información en MPa de cada probeta.
Los resultados demostraron que el valor promedio de resistencia a la compresión
de la resina nanohibrida FILTEK™ Z350 XT fue de 219.2 MPa, el valor promedio
de resistencia a la compresión de la resina nanohibrida Magma NT fue de 186.8
MPa y el valor promedio de resistencia a la compresión de la resina nanohibrida
FORMA 182.9 MPa.
Se concluyó que la resina nanohibrida FILTEK™ Z350 XT posee mayor
resistencia a la compresión frente a las resinas nanohibridas Magma NT y
FORMA.
Palabras clave: Resinas, incremental, resistencia a la compresión, nanohibridas.
Description
Keywords
Resinas, incremental, resistencia a la compresión, nanohibridas